【7月12日讯】相信大家都知道，自从2020年5月15日，美国商务部再次颁发了“新规”，开始严格限制华为海思芯片技术中国首台5纳米光刻机，这次美国直接修改了相关的产品出口使用规则以及相关的法律，直接禁止使用美国技术和相关设备的芯片代工企业继续和华为和合作，这意味着未来台积电等芯片代工厂商，将有可能无法继续为华为代工生产芯片产品，这也意味着国产芯片制造领域的技术、设备等方面的落后，也成为了美国打压国产芯片制造业的底气所在，毕竟美国目前在整个芯片制造业中，拥有极大的话语权，就连全球最顶尖的EUV光刻机厂商—荷兰ASML公司，也同样会受到美国方面的限制，离不开美国的技术帮助，这也是为何美国一直禁止中芯国际高价购买获得荷兰EUV光刻机，中芯国际在2018年订购了一台EUV极紫外光刻机，至今依旧未能够完成交付；
对于整个芯片制造产业链，最为核心的三大半导体设备就是光刻机、蚀刻机以及离子注入机，而目前国产芯片蚀刻机、国产离子注入机都已经取得了新突破，打破了外国技术封锁，尤其是国产芯片蚀刻机更是直接突破了5nm芯片工艺，成为了全球遥遥领先的芯片蚀刻机生产厂商，其次在离子注入机设备方面也同样如此，处于全球遥遥领先的地位，但国产光刻机却一直都停留在90nm芯片制程工艺，即便是前一段时间，上海微电子曾突然宣布了一则好消息：“最快将会在2021年交付首台国产28nm沉浸式光刻机产品，虽然这只是一台28nm沉浸式光刻机设备，但在经过多重曝光之下，最高能够实现7nm芯片量产。” 这意味着一旦国产光刻机技术取得突破之后，美国所颁发的“芯片断供禁令”也将会成为一纸空谈。
而近日，更让广大网友们更为兴奋的就是，中科院正式对外宣布，已经成功研发出了最新型的5nm超高精度激光光刻加工技术，要知道此前，荷兰ASML公司就直接对外放出狠话：“7nm以下的芯片工艺都必须要使用ASML的EUV光刻机才可以生产” 但如今中科院所研发的新型的5nm超高精度激光光刻机加工方法。也是直接证明了，想要制造高端芯片并不是只有荷兰ASML高端光刻机设备能够做到；
对此也有外媒直接放出猛料表示：“中国目前已经研究出了5nm激光光刻技术，这意味着中国已经能够具备生产顶尖光刻机的实力，一旦这项技术直接从实验室走向量产阶段，则意味着中国能够自产5nm光刻机，但目前而言，这项技术依旧还只停留在实验室阶段中国首台5纳米光刻机，距离真正量产依旧还是为时尚早。”
相信看到这则消息，肯定也会有很多网友吐槽，毕竟这项技术依旧还在实验室阶段，但实际上，中国那一项技术不是从试验阶段而来，例如全球最先进的5nm芯片蚀刻机，高端离子注入机等等，所以小编也是非常坚信，只要我们继续努力，相信终有一天我们的国产5nm光刻机会传来好消息。
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